脫落種植體表面刮治與噴砂處理X射線能譜儀(EDS)分析
目的觀察刮治和噴砂對脫落種植體表面的影響。方法對臨床上因種植體周圍炎脫落的Bego Semado S系列種植體進行表面刮治和噴砂,掃描電鏡(scanning electronic microscopy,SEM)下觀察形態,用X射線能譜儀(energy dispersive X-ray spectrometer,EDS)進行表面元素分析。結果 SEM下觀察,刮治能夠清潔種植體表面,噴砂后能進一步清潔種植體表面。元素分析表明噴砂能夠大幅降低脫落種植體表面的C元素含量(P<0.05),提升種植體表面Ti元素的原子百分比(P<0.05)。結論在Bego Semado S系列種植體周圍炎的治療中,進行噴砂處理是必要的。 ......閱讀全文
軟X射線能譜定量測量技術研究
采用每毫米 10 0 0線的自支撐透射光柵配上背照射軟X射線CCD(charge coupleddevice)組成了透射光柵譜儀 ,利用北京同步輻射裝置 (BSRF) 3W1B光束線軟X射線實驗站上X射線源分別對透射光柵的衍射效率和軟X射線CCD的響應靈敏度進行了準確的實驗標定 ,獲得了 15 0e
Z箍縮軟X射線連續能譜測量
診斷Z箍縮等離子體不同時刻的空間分布及狀態是認識等離子體運動規律進而控制其箍縮過程以便加以利用的必經環節。在箍縮過程中,離子、電子和光子發生強烈的相互作用,探測出射的X光可不破壞等離子體原有狀態而獲取三者運動信息。通過測量X光能譜可以探知輻射場溫度、離子密度、輻射沖擊過程等等。受現有裝置驅動能力的限
X射線能譜儀和波譜儀的優缺點
能譜儀全稱為能量分散譜儀(EDS)。 目前最常用的是Si(Li)X射線能譜儀，其關鍵部件是Si(Li)檢測器，即鋰漂移硅固態檢測器，它實際上是一個以Li為施主雜質的n-i-p型二極管。 Si(Li)能譜儀的優點 分析速度快 能譜儀可以同時接受和檢測所有不同能量的X射線光子信號，故可在幾分
美國KEVEX公司8000型x射線能譜儀
?8000型X射線能譜儀主要做能量分散X射線分析,可用于冶金、電子、地球化學勘探、化工、石油、生物醫學等許多領域。儀器由X射線探測器,分析儀,小型計算機、大容量存貯器,顯示器,鍵盤和軟件構成。?
基于MARS系統的X射線能譜CT研究
X射線是19世紀末物理學的三大發現（X射線1895年、放射性1896年、電子1897年）之一，這一發現標志著現代物理學的誕生。由于X射線是波長介于紫外線和γ射線之間的電磁輻射，因而它具有很高的穿透本領，能穿透許多對可見光不透明的物質，基于此，可用來幫助人們進行醫學診斷和治療，或者用于工業等領域的非破
X射線能譜儀的使用原理及應用
在許多材料的研究與應用中，需要用到一些特殊的儀器來對各種材料從成分和結構等方面進行分析研究。其中，X射線能譜儀(XPS)就是常用儀器。下面詳細介紹一下X射線能譜儀的基本原理、結構、優缺點及應用。? X射線能譜儀的簡介? X射線光電子能譜(XPS)也被稱作化學分析用電子能譜(ESCA)。該方法是在
快脈沖硬X射線能譜測量實驗研究
研究設計了以解析吸收片后的透射率來測量快脈沖硬X射線輻射場能譜的實驗方法。對實驗方案進行了理論模擬設計,并獲得了解譜必要的理論數據,通過測量不同吸收片后光強的實驗方法獲得了透射系數,用微擾的數學方法完成了測量譜的解析,復現了測量位置處快脈沖硬X射線輻射場能譜,最后對該方法的可靠性進行了驗證。?
多層鏡軟X射線能譜儀的研制
軟X射線能譜測量是ICF實驗中的重要內容,測量意義重大。軟X射線能診斷通過光譜分析,可以得到X射線總的通量,輻射溫度,轉換效率以及反照率。這些都是間接驅動黑腔熱力學的重要參數。作為黑體腔特征診斷系統,軟X射線能診斷系統測量黑體腔中發射出的X射線,可得出黑腔中輻射溫度的時間變化圖。針對目前常用的譜儀往
X射線光電子能譜儀原理
X射線光子的能量在1000～1500ev之間，不僅可使分子的價電子電離而且也可以把內層電子激發出來，內層電子的能級受分子環境的影響很小。 同一原子的內層電子結合能在不同分子中相差很小，故它是特征的。光子入射到固體表面激發出光電子，利用能量分析器對光電子進行分析的實驗技術稱為光電子能譜。?XPS的原理
用于高能X射線能譜測量的MLS法
為滿足高能X射線能譜測量的需要,提出采用MLS法進行能譜測量的方案。MLS法克服了其他測量方法散射不易控制、光場不均勻性影響較大的缺點,還具有對不同角度能譜進行測量的優勢。對MLS法的測量原理以及測量過程中的注意事項進行了明確,并利用蒙特卡羅方法針對一特定的X射線能譜設計了兩種不同介質的測量裝置,并
電子探針分析的X射線能譜法
本文介紹了使用硅(鋰)檢測器進行定量電子探針分析的一種方法,這種方法使用了背景模擬技術及其它技術中的電荷收集不完全和電子噪聲的校正。輕元素分析的改進對硅酸鹽樣品是特別有利的,使之盡可能采用純金屬作分析標樣。這種方法已被用于各種地球化學樣品的分析中(包括用JG—1和JB—1巖石做成的玻璃)。與濕式化學
X射線能譜儀和波譜儀的優缺點
能譜儀全稱為能量分散譜儀(EDS)。 ?目前最常用的是Si(Li)X射線能譜儀，其關鍵部件是Si(Li)檢測器，即鋰漂移硅固態檢測器，它實際上是一個以Li為施主雜質的n-i-p型二極管。Si(Li)能譜儀的優點 ?分析速度快 能譜儀可以同時接受和檢測所有不同能量的X射線光子信號，故可在幾分鐘內分析和
氚鈦靶的X射線能譜初步研究
采用超低能鍺探測X射線技術和βIXS方法,研究了在Ar氣、空氣介質中鉬材料中氚和氚鈦靶中氚產生的X射線能譜。Ar氣介質與空氣介質相比,鉬材料中氚產生的X射線能譜除了與空氣介質在同樣的峰位能量2.2keV位置產生譜峰外,還增加了一個峰位能量為3.0keV的譜峰。
X射線能譜測量的蒙特卡羅成像模擬
針對高能強流電子束轟擊高Z靶產生的X射線的能譜測量問題,采用蒙特卡羅方法進行成像模擬研究。高能X射線能譜通常由對X射線經過衰減體的直穿透射率曲線進行解譜獲得。設計了帶多準直孔的截錐體模型,在單次模擬成像中獲得完整的衰減透射率曲線,有效避免了散射光子對透射率曲線以及X射線能譜重建的影響。成像面采用非均
X射線能譜分析中譜線重疊問題
掃描電子顯微鏡上配接Si(Li)探測器X射線能譜儀,進行地質樣品分析時,由于它的峰,背比值較低和譜線分辨率不如X射線波譜儀,盡管探測效率很高,仍然存在譜線的干擾或重疊現象。譜線的干擾或重疊現象主要劃分為三個類型:相鄰或相近元素同一線系(K、L、M)的譜線之間重疊;原子序數較低的K線系譜線與原子序數較
X射線能譜儀的工作原理和應用
1 X射線能譜儀的工作原理 當電子槍發射的高能電子束進入樣品后，與樣品原子相互作用，原子內殼層電子被電離后，由較外層電子向內殼層躍遷產生具有特定能量的電磁輻射光子，即特征X射線。X射線能譜儀就是通過探測樣品產生的特征X射線能量來確定其相對應的元素，并對其進行相應的定性、定量分析。 2 掃描電
X射線能譜法與X射線光譜法最小濃度檢測極限的對比
自從1968年Fitzgerald等人把x射線能譜法[EDX]引用于電子光學儀器以來,不少專家就著手評價這兩種系統的優劣了。Servant等人在普通掃描電鏡[SEM]上加裝束流調節器和防污染裝置,用能譜儀[EDX]對濃度大于2(wt)%的二元合金。
HPGe測量連續硬X射線能譜的解譜方法研究
結合數值模擬得到的單能光子在HPGe探測器上能量響應函數,用改進的剝譜法對測量得到的連續硬X射線能譜進行解譜。扣除測量譜中康普頓、反散射等效應產生的計數對測量能譜的影響,得到了僅反映探測器對光電效應的能量響應的能譜。最后,通過效率修正,完成了測量譜到實際能譜的還原,為連續硬X射線能譜解析提供了可靠方
NaI晶體譜儀采集X射線能譜測量方法研究
為準確測量軔致輻射X射線能譜,利用NaI晶體譜儀對于測量光子的能譜展寬效應,結合理論模擬分析,提出了采用變能量矩陣求解法實現X射線能譜的重建。該方法通過合理選擇能量區間,可有效消除能譜響應矩陣中各矢量的相關性,從而實現能譜的準確重建。并分別以均勻能譜分布和實際軔致輻射X射線能譜為例,進行了X射線的能
用改進的透射光柵譜儀定量測量X射線能譜
利用最新研制的小型化透射光柵譜儀在"神光Ⅲ"原型實驗裝置上測量了激光注入金腔靶時激光注入口的X射線能譜,首次實現了在上極點附近對柱腔注入口輻射的測量,且實現對X射線的二維空間分辨和譜分辨的測量。改進后的透射光柵譜儀成像系統首次使用一種錯位排布的狹縫陣列結構來解決因譜儀尺寸減小帶來的能譜分辨問題,并同
用透射光柵譜儀測量金箔背側X射線能譜
在星光激光裝置上利用波長為 0 3 5 μm的激光輻照金箔靶 ,在金箔靶背側用透射光柵配X射線chargecoupleddevice系統測量了其發射的軟X射線能譜 ,并與用亞千能譜儀測量的結果進行了比較 ,獲得了比較一致的結果 .測量結果表明 ,0 17μm厚度的金箔靶背側的X射線能譜偏離平衡輻射譜
HPGe測量連續硬X射線能譜的方法研究
采用數值模擬與實驗測量相結合的方法,完成了探測系統刻度,得到了該探測器對單能光子的能量全響應函數,在此基礎上探索出改進的剝譜法,對測量得到的連續硬X射線能譜進行解析,扣除了測量譜中非光電效應對每道計數的貢獻,復現了測量位置處的實際能譜,并對該能譜測量方法進行了誤差分析,提出了進一步完善措施。?
X射線光電子能譜儀的介紹
X-射線光電子能譜儀，是一種表面分析技術，主要用來表征材料表面元素及其化學狀態。其基本原理是使用X-射線，如Al Ka =1486.6eV，與樣品表面相互作用，利用光電效應，激發樣品表面發射光電子，利用能量分析器，測量光電子動能(K.E)，根據B.E=hv-K.E-W.F，進而得到激發電子的結合能（
脈沖硬X射線能譜軟化方法數值分析
基于軔致輻射原理,提出了通過軔致輻射靶優化設計軟化脈沖硬X射線能譜的方法。采用MCNP程序模擬了復合薄靶和反射靶的輸出參數,分析了復合薄靶中轉化靶和電子吸收材料厚度對脈沖硬X射線能譜、轉換效率以及透射電子份額的影響;給出了反射靶透射和反射X射線能譜、轉換效率的差異及其隨電子入射角度的變化規律。根據模
激光等離子體X射線能譜的測量
分別用K邊濾波和濾波-熒光法測量了激光等離子體發射的1.5—100keV的X射線連續譜。文中敘述了激光等離子體X射線能譜的測量方法和多道X射線能譜儀,介紹了激光聚變實驗結果。?
基于DSP的X射線能譜數據采集系統設計
在此以X射線透射衰減規律為基礎,設計出基于DSP的X射線能譜數據采集系統。重點介紹用于能譜數據采集的硬件電路和軟件設計,其中,硬件電路主要由前置放大、濾波、主放大、峰值保持電路組成,軟件主要由TMS320F2812對經過預處理后的脈沖信號進行多道脈沖幅度分析操作,并最終繪制出X射線能譜圖。本系統具有
腔靶軟X射線能譜結構的實驗研究
敘述了利用雙狹縫透射光柵譜儀,在高功率激光物理聯合實驗室神光裝置上,對腔靶不同位置的能譜進行診斷,給出了腔靶源區能譜的空間分布和爆區的能譜結構,為腔靶輻射場的研究提供了重要信息。
X射線光電子能譜（XPS）的簡介
XPS是重要的表面分析技術之一，是由瑞典Kai M. Siegbahn教授領導的研究小組創立的，并于1954年研制出世界上第一臺光電子能譜儀，1981 年，研制出高分辨率電子能譜儀。他在1981年獲得了諾貝爾物理學獎。
X射線光電子能譜儀的介紹
X-射線光電子能譜儀，是一種表面分析技術，主要用來表征材料表面元素及其化學狀態。其基本原理是使用X-射線，如Al Ka =1486.6eV，與樣品表面相互作用，利用光電效應，激發樣品表面發射光電子，利用能量分析器，測量光電子動能(K.E)，根據B.E=hv-K.E-W.F，進而得到激發電子的結合能（
X射線光電子能譜法的簡介
中文名稱X射線光電子能譜法英文名稱X-ray photoelectron spectroscopy，XPS定 義以單色X射線為光源，測量并研究光電離過程發射出的光電子能量及相關特征的方法。能夠給出原子內殼層及價帶中各占據軌道電子結合能和電離能的精確數值。應用學科材料科學技術（一級學科），材料科學技