傳統的光散射儀采用自相關模式者居多，其光路圖基本如下：
這種配置最大的優勢是采用一個檢測器，價格相對較低，另外入射光角度為0°，光路準直相對較穩定，散射光強被完全利用，相關函數的最大截距為1。但是這種配置也存在一定問題，不能抑制多重散射，對于快的相關弛豫時間（＜10μs），后脈沖效應會導致較大誤差。
這就催生了互相關技術的誕生。下圖是瑞士光散射儀器公司的三維準互相關模式的設計圖：
這種配置能有效的消除后脈沖效應，對于小粒子快擴散的表征有著明顯的優勢，同時其相關函數最大截距也能達到1。但是這種設計采用了分光器，也就是說只有50%的激光強度被有效利用，同時溫度的變化對準直有著輕微影響。這種準互相關的設計也不能抑制多重散射。
光散射儀器公司還能提供另外一種終極準互相關模式的配置，這種配置不僅具備上述準互相關模式的優點，還由于0°入射光進入，光路準直較為穩定，更由于不采用分光器，入射光強完全被利用。其唯一的缺點就是不能有效抑制多重散射。其設計圖如下：
德國ALV公司也是采用這種準互相關技術，更由于其一體化設計、光路預準直以及開機自檢角度定位等特點，其光路在使用過程中不用維護，操作非常簡潔。
為了解決多重散射，使得光散射儀能有效的應用于高濃度或高濁度體系，瑞士光散射儀器公司創造性的提出了3D互相關技術并將其商品化，其設計圖如下：
這種光散射技術可以用來測試高濃度的體系，但是溫度變化會對準直有著輕微影響，所以要求實驗環境溫度穩定，另外其相關函數最大截距降至0.22，這也是美中不足的一點。但是無容置疑，這種技術在表征高濃度體系時有著無以倫比的優勢。尤其是對于濃度依賴性較大的動態的表征更是如此。