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  • 發布時間:2023-03-15 14:17 原文鏈接: 無損失效分析技術介紹

    1、外觀檢查,主要憑借肉眼檢查是否有明顯缺陷,如塑脂封裝是否開裂,芯片引腳是否接觸良好。X射線檢查是利用X射線的****性能對被測樣品進行X射線照射,樣品缺陷部份會吸收X射線,導致X射線照射成像出現異常。X射線主要檢查集成電路引線是否損壞問題。根據電子元器件的大小和結構選擇合適的波長,這樣能得到合適的分辨率。

    2、掃描聲學顯微鏡,是利用超聲波探測樣品內部缺陷,依據超聲波的反射找出樣品內部缺陷所在位置,這種方法主要用主集成電路塑封時水氣或者高溫對器件的損壞,這種損壞常為裂縫或者脫層。



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