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  • 發布時間:2022-10-30 14:01 原文鏈接: 光學異構體的命名步驟及原則

    光學異構體的構型有兩種表示方法D、L和R、S,D 、L標記法以甘油醛為標準,有一定的局限性,有些化合物很難確定它與甘油醛結構的對應關系,因此,更多的是應用R、S標記法,它是根據手性碳原子所連四個不同原子或基團在空間的排列順序標記的。光學異構體一般用投影式表示,要掌握費歇爾投影式的投影原則及構型的判斷方法。

    根據投影式判斷構型,首先要明確,在投影式中,橫線所連基團向前,豎線所連基團向后;再根據“次序規則”排列手性碳原子所連四個基團的優先順序,將最小基團氫原子作為以碳原子為中心的正四面體頂端,其余三個基團為正四面體底部三角形的角頂,從四面體底部向頂端方向看三個基團,從大到小,順時針為R,逆時針為S。


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